第九五六章 研发极紫外光（2 / 3）

“艾德里安总经理，BSEC开发的光刻机磁悬浮式双工作台系统拿到日本和欧美国家签发的公司发明专利，要等18个月左右。”

“孙董事长，我放心了！”

艾德里安顿时轻松了一大截，孙董事长还是挺幽默的。

“汤普森院长，公司如今经费紧张，光源研究所是继续研制ArF准分子激光器？还是像Nikon开始研制F2准分子激光器？”

“孙董事长，我认为光源研究所应该另辟蹊径，开始研制波长只有十几个纳米的极紫外光？”

GCA在八五年就研制成功ArF准分子激光器，在光刻机光源领域全球领先，但在透镜和反射镜构成的光学系统方面逊于Nikon半导体设备公司不断提升的光学系统，加上光刻机光源被卡在193nm波长上多年，又遭遇全球芯片生产的衰退期，光刻机的霸主地位逐渐被光学系统不断提升的Nikon半导体设备公司抢走，年年亏损，公司裁人，技术人员流失，沦落到两次被贱卖的地步。

“汤普森院长预测光源研究所，能在多长的时间内研制成功极紫外光？”

孙健心中一喜，他不是不想投资研制极紫外光，而是担心投资太大，即使研制成功，没有配套的光学系统和相适应的光刻胶、掩膜版等，GCA也生产不出EUV光刻机！

前世，举国之力研制13.5nm的EUV光源也没有结果，在世界上只有ASML控股的Cymer才能生产EUV光源，可见难度之大！

在光刻机光源方面，光刻机光源后起之秀Cymer如今还不是GCA的对手。

Cymer前世能成为光刻机光源的霸主，除了被ASML收购后不断投入巨资研发外，也有ASML将收购的GCA光刻机光源研究所并入Cymer光刻机光源研究院，强强联合。

前世，极紫外光技术的研发成功，不知道汤普森院长在其中发挥的作用？

GCA光刻机半导体研究院的研究重心应该放在技术领先的ArF准分子激光器和KrF光刻胶研制上。

GCA与IBM同是Sematech会员，赢者通吃，避免重复研究，不担心IBM卡B子，IBM垄断KrF光刻胶十几年，但不知道什么原因？前世是信越化学等日本公司在光刻胶上一枝独秀，还卡了韩国人的脖子！

“孙董事长，只要能保障光源研究所的研发经费，我保证光源研究所三年内研制成功极紫外光。”

“汤普森院长，光源研究所需要多少研发经费？”

汤普森院长不是年轻人，敢打包票，就说明有绝对的把握，重生者不怕花钱！一旦攻克了EUV，能否生产EUV光刻机？GCA都会成为光刻机行业的领导者！